第221章 14nm的最大敌人是时间(1/2)
128天 07小时 42分钟
数字每跳动一秒，都像重锤敲击在每个人的心头。这是天权5号晶片14nm工艺量产良率必须突破75%成本线的最终期限，不是技术目标，是生存线。
「材料战场的首批成果出来了。」林薇的声音通过加密视频传来，她人在材料所，背景是高纯度矽锭的熔炼炉监控画面，「徐院士团队联合宝钢，采用『电弧炉精炼-电子束区域熔炼』联合法，第一批电子级高纯矽锭纯度达到11个9，比日本信越的顶级产品还高出半个数量级。」
屏幕上弹出检测报告：铁丶铜丶镍等关键金属杂质含量全部低于0.01ppt，完全满足14nm工艺要求。
控制室里响起短暂的掌声，但很快平息。所有人都知道，这只是万里长征的第一步。
「成本呢？」陈醒问，眼睛没有离开倒计时。
「目前是国际市场价格的三点二倍。」林薇的数据很精确，「但徐院士计算过，如果产能扩大到千吨级，成本可以降到一点八倍；如果到万吨级，有望实现平价。问题是……」
「问题是时间。」陈醒接话，「我们等不起万吨级的产能爬坡。128天，我们需要的不是实验室样品，是稳定丶大批量丶低成本的材料供应。」
他转向材料供应链地图，上面标注着十二类被限制的关键材料，高纯矽只是其中之一。虽然国内攻关有了突破，但距离真正的产业级供应还有巨大的鸿沟。
「日本方面的反应？」李明哲问。他刚结束与日本经济产业省的非正式沟通。
「混合信号。」李明哲调出通讯记录，「日本材料协会内部已经分裂。部分巨头企业坚决跟随美国禁令，但也有特化品企业正在游说，因为华夏市场占他们营收的百分之三十五以上。今天上午，有一家通过第三方向我们传递消息：如果未来科技能保证『不将获得的材料用于军工领域』，他们可以『个案处理』部分光刻胶的供应。」
「陷阱。」周明立即警告，「『不用于军工』的定义权在他们手里。今天可以说手机晶片不算军工，明天就能说5G基站晶片涉及国家安全。一旦我们签了这种限制条款，就等于承认他们有权对我们的技术用途进行审查。」
「但我们现在急需光刻胶。」张京京在视频接入中插话，他人在14nm试产线的洁净室监控区，「吴工设计的『反向触发』方案清除了储罐污染，生产线已经重启。但光刻胶库存只够维持两周的正常流片。如果没有新的供应……」
他没有说完，但意思明确：两周后，14nm产线将因缺少关键材料而被迫停产。
倒计时数字跳动：128天 07小时 31分钟。
时间在流逝，而他们被卡在第一个关口。
陈醒闭上眼睛，三秒钟后重新睁开，眼中已没有任何犹豫。
「明哲，回复那家公司：未来科技所有产品均为民用商业晶片，但不会签署任何单方面限制条款。如果他们愿意供应，我们可以接受『最终用户声明』，即我们承诺产品用于合法民用领域，这是国际贸易的通用做法，不是特设审查。」
「如果他们不同意呢？」
「那就启动B计划。」陈醒切换到材料战场的子地图，上面标注着十几个替代方案节点，「俄罗斯乌拉尔电子化学联合体可以提供基础光刻胶原料，虽然纯度只有99.99%，但我们可以用徐院士团队开发的『分子筛提纯工艺』进行二次精制。伊朗德黑兰大学材料实验室在感光聚合物方面有十五年积累，他们的『耐高温光刻胶』专利我们可以买断。」
「这些方案……可靠吗？」有人小声质疑。
「不成熟，但有基础。」陈醒坦然承认，「可靠性需要用时间和资源去验证，而这正是我们最缺的两样东西。所以，我们需要做出取舍。」
他调出中央研究院过去半年评估的「非对称技术路线图」，上面列出了二十七项有潜力但尚未成熟的技术。
「原本我们计划用三到五年逐步孵化这些技术，形成第二套技术体系。但现在，敌人没有给我们这个时间。」陈醒的手指在几个节点上划过，「所以我要调整策略：集中百分之八十的资源，保障14nm主流工艺路线在128天内突破；同时投入百分之二十的资源，在这些非对称技术上做『种子保存』，确保即使主流路线被彻底封死，我们还有火种。」
这是一个艰难的平衡：主流路线需要巨额投入才能突破良率瓶颈，而非对称路线是长期的保险，但在资源极度紧张的情况下，分散投资可能两头落空。
「陈总，这个比例……」林薇欲言又止。
「我知道风险。」陈醒看向她，「但如果把资源全部押在主流路线上，一旦某个关键环节被彻底卡死，我们就满盘皆输。保留百分之二十的火种，至少保证十年后还有人记得怎麽造晶片。」
会议室陷入沉默。所有人都听懂了这句话背后的悲壮意味：这是在为最坏的情况做准备。
倒计时数字跳动：128天 07小时 15分钟。
「回到14nm良率本身。」陈醒切换屏幕，显示出当前试产线的实时数据，「京京，现在最大的瓶颈是什麽？」
张京京调出过去一周的流片报告：「目前良率卡在百分之三十八，距离百分之七十五的成本线还差三十七个百分点。我们分析了所有失效晶片，发现三大类问题：第一，图形转移缺陷，占比百分之四十二，这与光刻胶和掩模版有关；第二，薄膜均匀性问题，占比百分之三十三，与沉积设备的工艺窗口太窄有关；第三……」
他停顿了一下，放大了第三类缺陷的显微图像：「随机性缺陷，占比百分之二十五。表现为随机的短路丶开路丶参数漂移，没有明显规律。我们怀疑与洁净室环境有关，特别是悬浮粒子。」
「悬浮粒子不是有监控吗？」李明哲问。
「有，而且数据都在标准范围内。」张京京调出洁净室的粒子监测曲线，「但问题是，现有监测仪器的精度是0.1微米，而14nm工艺对0.05微米以上的粒子就敏感了。也就是说，我们可能有一批『看不见的杀手』在产线里游荡，而监测系统却显示一切正常。」
这就像在浓雾中作战，敌人看得见你，你却看不见敌人。
「解决方案？」陈醒言简意赅。
「三个方向。」张京京显然已经深入思考过，「第一，升级监测系统，采购更高精度的粒子计数器，但这需要进口，时间来不及。第二，改造洁净室的空气流场设计，但那是厂房基建层面的大工程，至少三个月。第三……」
他看向视频画面中的林薇：「林总上周提出了一个设想：用计算流体力学仿真，重建整个洁净室的微观流场，找出粒子可能聚集的『死角』，然后针对性地增加局部净化装置。」
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