第216章 试产线出现铜污染隐患(2/2)
控制系统工程师调出日志，脸色变得古怪：「命令来自……材料所内部网络，IP位址是实验室三楼的分析仪器控制终端。但那个终端今天下午没有人登录，处于待机状态。」
「被黑入了？」
「不像。登录记录显示是正常密码认证，用户名是……吴文山。」
这个名字像一颗炸弹投入控制室。
张京京的心脏猛然一缩。他想起了林薇上午发来的会议纪要，吴文山主动要求详细的污染部件分析资料，而就在资料发出后不到六小时，污染以更复杂的方式再次爆发。
时间上的巧合太过精准。
「立即锁定那个终端，保存所有操作日志。」张京京强迫自己冷静，「另外，查一下吴文山今天下午的所有通讯记录，林总那边应该在做监控。」
他走到窗边，看着实验室里那些昂贵的分析仪器。阳光透过高窗洒下，在光洁的地板上投下几何形状的光斑。一切看起来都那麽乾净丶那麽有序。
但在这秩序之下，某种看不见的恶意正在蔓延。
十分钟后，材料分析室传来初步结果：储罐B-3内壁取样中，检测到一种「温度敏感型水凝胶微胶囊」的残留物。胶囊直径在50到100纳米之间，壳层材料会在水温超过30℃或压力剧烈波动时破裂，释放内部包裹的「铜-有机络合物」。
「铜-有机络合物在水中会缓慢解离，释放出铜离子。」分析员在电话里解释，「更关键的是，这种释放是『触发式』的，不触发时稳定，一触发就爆发。完美解释脉冲污染。」
「能确定胶囊的来源吗？」
「胶囊的合成工艺很特殊，需要微流控晶片技术精确控制。全球能做这种级别纳米胶囊的实验室不超过二十家，其中十二家在美国。」
美国。又是美国。
张京京感到一阵寒意。如果储罐内壁真的被喷涂了这种「智能污染涂层」，那就意味着在设备制造或安装环节，供应链已经被深度渗透。三个月前安装的储罐，三个月后恰好在美国发布限制清单的时间点爆发污染，这不是巧合，这是精心设计的「定时炸弹」。
而吴文山在这个时间点出现在这个事件中，到底扮演什麽角色？
加密电话响起，是林薇。
「京京，我这边监控显示，吴工下午收到资料后，一直在办公室分析数据，没有对外通讯。」林薇的声音带着困惑，「但是……他在分析过程中，有三次长时间停顿，每次停顿都刚好在系统出现异常操作的时间点前后。」
「长时间停顿？」
「对。第一次停顿是在下午四点十八分，持续了三分二十秒。第二次是四点四十九分，持续两分十五秒。第三次是四点五十二分，持续一分四十秒。」林薇调出监控记录，「停顿期间，他没有任何操作，只是盯着屏幕，表情……很痛苦。」
痛苦？不是紧张或心虚，而是痛苦？
张京京感到事情比自己想像的更复杂。
「林总，我们这边的污染模式升级了。」他简要汇报了脉冲污染和智能胶囊的发现，「从技术角度看，吴工上午提供的清洗方案是有效的，也确实清除了第一波污染。但第二波污染……需要系统级的控制权限才能触发。」
「你认为他有这个权限吗？」
「理论上没有。他是宝岛研发中心的顾问，权限仅限于技术资料库查询，不能远程操作大陆的制造系统。」张京京顿了顿，「但如果有人用他的帐号……」
话没说完，但意思已经明白。
电话那头沉默了几秒。
「京京，我要告诉你一件事。」林薇的声音压低了，「今天会议结束后，我查了吴工儿子的档案。他儿子吴浩宇在美国研究的课题，就是『纳米级智能材料在微电子制造中的应用』，其中一篇未发表的论文提到了『温压双响应微胶囊的可控释放』。」
张京京的呼吸停滞了。
「论文是什麽时候的？」
「五年前。但论文的指导教授，正是David Chen，就是吴工上午提到的那个美国顾问。」
时间丶人物丶技术，三条线在此刻交汇成一个可怕的节点：吴文山的儿子研究相关技术，儿子的导师是可疑的美国顾问，儿子在三年前离奇死亡，三年后同样的技术出现在未来科技的污染事件中，而吴文山作为当年事故处理者，如今又深度参与当下的事故调查。
这一切，如果是巧合，那也巧合得太过完美了。
「林总，您打算怎麽办？」张京京问。
「陈总正在开紧急会议，一小时后才能联系上。」林薇说，「在那之前……我想和吴工再谈一次。不是审问，是谈话。」
「风险太大。如果他真是……」
「如果他是，那麽他的痛苦表情可能意味着挣扎。」林薇打断，「如果他不是，那我们就冤枉了一个刚刚失去儿子丶还想为产业做点事的老人。我想赌一把。」
张京京想劝阻，但话到嘴边又咽了回去。他理解林薇的想法，在技术战争中，有时候需要冒人性的险。
「需要我配合什麽？」
「保持试产线隔离状态，但不要拆解储罐。」林薇说，「如果吴工愿意配合，也许他能告诉我们如何在不破坏证据的前提下，彻底清除这种智能污染。毕竟……他可能是最懂这种技术的人。」
通话结束。张京京回到控制台前，看着那些依然在轻微波动的污染数据。
脉冲已经停止，但系统里那些看不见的纳米胶囊还在，像无数颗微小的定时炸弹，等待着下一次触发。
他调出储罐B-3的设计图纸，目光落在氮气覆盖系统的控制阀上。那个阀门被远程关闭了三十秒，就在污染爆发前。
谁关闭的？怎麽关闭的？为什麽是三十秒？
更关键的是：这会是最后一次吗？
窗外的天色渐渐暗下来。实验室的自动照明系统启动，柔和的灯光洒满每个角落。但张京京知道，有些黑暗，是灯光照不亮的。
他想起陈醒常说的一句话：「在晶片制造中，最可怕的不是看得见的缺陷，而是那些藏在设计盲区丶在特定条件下才会显现的隐性错误。」
现在，他们面对的，可能就是这样一种「隐性错误」，一种被设计成只在特定时间丶特定条件下爆发的智能污染。
而发现这个错误的代价，可能是整条试产线，甚至整个材料自主化进程的延误。
墙上的时钟指向下午五点四十七分。
距离陈醒的会议结束还有十三分钟。
距离下一轮可能的污染爆发，也许更近。
张京京下令：「所有人员撤离控制室，启动远程监控模式。在得到进一步指令前，任何人不得接近试产线区域。」
他最后一个离开，在门口停顿了一下，回头看了一眼那些沉默的设备。